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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 用NaOH刻蚀二氧化硅壳层
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想吃荔枝呀

新虫 (初入文坛)

[求助] 用NaOH刻蚀二氧化硅壳层 已有1人参与

我做的纳米颗粒，想在表面包一层二氧化硅壳层，纳米颗粒尺寸大概在14nm左右，二氧化硅层已经包成功了，用的表面活性剂是Igepal CO-520，有几个问题想请教一下：
1.包覆二氧化硅层厚度大概在12nm左右，怎么减薄呢，减少了一倍TEOS，但是效果不明显。
2.试了一下用2M NaOH刻蚀，刻蚀后纳米颗粒里面有类似于中空现象出现，xrd图也很奇怪。

敬请大神指教！
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1楼 2024-09-12 20:09:34
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想吃荔枝呀

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by shinewayking at 2024-09-13 11:16:16
首先，你的基材颗粒材质是什么？
其次，你的基材颗粒是14nm，二氧化硅厚度是12nm，你首先保证测试的准确性。
第三，减少TEOS，二氧化硅厚度未改善，证明硅源投入是过量的。
第四，用2M的NaOH刻蚀，出现中空，证明 ...

我的颗粒是PdCu纳米颗粒；就是因为壳层太厚才想要刻蚀掉以保证测试准确性；TEOS减少了一半量但是壳厚没有明显变化，查了文献，想用co-720试试，因为分子量更高，但是目前还没探索出具体条件；我的Cu应该是不与氢氧化钠反应的，所以不知道怎么回事。
麻烦可以加联系方式嘛，谢谢了！
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3楼2024-09-21 09:28:12
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shinewayking

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
首先，你的基材颗粒材质是什么？
其次，你的基材颗粒是14nm，二氧化硅厚度是12nm，你首先保证测试的准确性。
第三，减少TEOS，二氧化硅厚度未改善，证明硅源投入是过量的。
第四，用2M的NaOH刻蚀，出现中空，证明你基材颗粒也是可以与碱反应，且更容易反应。
赞一下 回复此楼
2楼2024-09-13 11:16:16
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