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用NaOH刻蚀二氧化硅壳层 已有1人参与
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我做的纳米颗粒，想在表面包一层二氧化硅壳层，纳米颗粒尺寸大概在14nm左右，二氧化硅层已经包成功了，用的表面活性剂是Igepal CO-520，有几个问题想请教一下： 1.包覆二氧化硅层厚度大概在12nm左右，怎么减薄呢，减少了一倍TEOS，但是效果不明显。 2.试了一下用2M NaOH刻蚀，刻蚀后纳米颗粒里面有类似于中空现象出现，xrd图也很奇怪。 敬请大神指教！ |
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