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苏州恒芯微电子
耗材(Si/SOI/SiC/外延片等)、委托加工服务、单步制程开发、芯片开发
联系人:
王军
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邮箱:
jwang2020@hxwgroup.com.cn
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减薄、研磨、抛光工艺代工服务
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jj503185037
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注册: 2012-12-05
性别:
MM
专业: 半导体光电子器件
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减薄、研磨、抛光工艺代工服务
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内容
减薄
技术指标:
(1) 载片尺寸:8",6",4",小片
(2) 砂轮颗粒:#270;#600;#2000
(3) 均匀性:±5%;厚度精度:±3 um
应用领域:
应用材料包括Si,GaAs,InP,SiO2,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN等厚度快速减薄。
研磨
技术指标:
(1) 载片尺寸:8",6",4",小片
(2) 均匀性:±5%
(3) 粗糙度:< 100 nm
(4) 厚度精度:±2 um
应用领域:
应用材料包括Si,GaAs,InP,SiO2,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN等高精度研磨。
临时键合机
技术指标:
(1) 载片尺寸:8",6",4",小片
(2) 均匀性:±5um
应用领域:
应用材料包括Si,GaAs,InP,SiO2,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN等减薄、抛光载物台工装的高精度贴片。
化学机械抛光(CMP)
技术指标:
(1) 载片尺寸:8",6"整片
(2) 均匀性:±5%
(3) 粗糙度:< 1 nm
应用领域:
(1) 用于SiO2、SiNx、硅等材料等超高精度化学机械抛光;
(2) 用于集成电路平坦化工艺;
(3) 用于金属再布线(RDL)平坦化工艺;
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2024-03-24 13:19:47
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incc165
★
jj503185037(金币+1): 谢谢参与
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12楼
2025-01-14 22:14:15
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tzynew
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jj503185037(金币+1): 谢谢参与
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2024-03-24 13:58:06
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ericamy
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3楼
2024-03-28 01:19:12
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ericamy
。
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4楼
2024-04-01 03:36:20
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