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solgeltech

银虫 (小有名气)

[交流] 【讨论】Pt/Ti/SiO2/Si的热稳定性对铁电薄膜漏电流的影响

最近在实验中发现在Pt/Ti/SiO2/Si上制备的铁电薄膜相对于其他氧化物电极(比如说镍酸镧电极)的漏电流大很多,并且不太容易测到非常好的结果。

在经历650度60分钟退火处理后(模拟了薄膜制备过程中的热处理),Pt/Ti/SiO2/Si衬底均方根粗糙度由最初的2.110nm增长到7.912nm。这种表面形貌的改变会不会是导致铁电薄膜经历高温热处理后漏电流增大的主要原因呢?





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[ Last edited by solgeltech on 2009-10-12 at 09:32 ]
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kmwang

新虫 (小有名气)

这个有意思,同求
2楼2009-10-12 18:23:23
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fangbj

木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
应该不会。铁电薄膜漏电流大还是要从材料本身找原因。衬底有影响,但不回是关键性的。
3楼2009-10-12 18:49:41
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kmwang

新虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
问题是会不会是电极的这种变化导致上面生长的铁电薄膜质量出现问题
4楼2009-10-12 18:59:30
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mse507

木虫 (正式写手)


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引用回帖:
Originally posted by kmwang at 2009-10-12 18:59:
问题是会不会是电极的这种变化导致上面生长的铁电薄膜质量出现问题

Pt的快速生长有可能会导致铁电薄膜出现微裂纹,从而导致薄膜漏电严重。
5楼2009-10-12 20:12:38
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kmwang

新虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
有没有人探究过这个问题?大家分享一下
6楼2009-10-13 08:20:03
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mse507

木虫 (正式写手)


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引用回帖:
Originally posted by kmwang at 2009-10-13 08:20:
有没有人探究过这个问题?大家分享一下

Pt在热处理时的生长应该属于二次生长(Secondary grain growth),是通过大晶粒吃掉小晶粒来实现的,因此必然会导致Pt晶粒尺寸不均匀。这会导致上面的铁电薄膜的晶粒尺寸均匀性变差,表面粗糙度升高、乃至漏电流升高。
7楼2009-10-15 18:38:42
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