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infinite23

铁虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】磁控溅射电源问题

请问各位磁控溅射的靶可以同时使用射频电源和直流电源吗?如果可以,该怎么接线或者怎么设计?谢谢!
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jsszwutao

铁杆木虫 (小有名气)

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同时使用???没听说过有这种用法。要么射频溅射,要么直流溅射。金属的话两种都能用,陶瓷靶只能射频
2楼2009-09-19 21:51:36
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infinite23

铁虫 (初入文坛)

对,是金属,现在想同时使用,看可不可行?
3楼2009-09-19 22:08:16
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yjyang07

木虫 (著名写手)

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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:07
直流的一般只能用来溅射导电的材料,射频的话导电的和绝缘的都是可以的
天行健,君子以自强不息~~~~~
4楼2009-09-21 08:43:48
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zhrdrc

铜虫 (小有名气)

怎么能同时使用呢?
5楼2009-09-21 09:15:38
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infinite23

铁虫 (初入文坛)

我是听说可以,但是没查到相关的资料,所以上来问问大家,看看有没有人知道。我现在是想溅射金属,想直流和射频同时使用,该怎么接线?
6楼2009-09-21 12:46:49
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gaosongsong

新虫 (小有名气)

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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:07
好像前一阵子见到过,刚刚替你Google了一下,
“ 通过对衬底施加负偏压吸引等离子体中的阳离子对衬底轰击,从而用射频磁控溅射法在水冷透明绦”
一般的磁控溅射系统的基片台部分好像都可以加热冷却加偏压的。
7楼2009-09-21 14:59:29
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙

★ ★
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:08
引用回帖:
Originally posted by gaosongsong at 2009-9-21 14:59:
好像前一阵子见到过,刚刚替你Google了一下,
“ 通过对衬底施加负偏压吸引等离子体中的阳离子对衬底轰击,从而用射频磁控溅射法在水冷透明绦”
一般的磁控溅射系统的基片台部分好像都可以加热冷却加偏压的。

楼主说的是对于靶。我觉得不行,因为这相当于交流的某半个周期得到偏压加强,而另半个周期的偏压得到削弱,这有什么意义吗?不懂。
没有困难创造困难也要上网。
8楼2009-09-21 15:47:31
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙

如此一来,相当于加脉冲直流偏压了。
没有困难创造困难也要上网。
9楼2009-09-21 15:48:39
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tplee_hb

铜虫 (小有名气)


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楼主是想有时候用直流有时候用射频呢,还是两个电源同时工作于同一个靶上呢?
10楼2009-09-21 15:55:20
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