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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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infinite23

铁虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】磁控溅射电源问题

请问各位磁控溅射的靶可以同时使用射频电源和直流电源吗？如果可以，该怎么接线或者怎么设计？谢谢！
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1楼 2009-09-19 11:21:01
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jsszwutao

铁杆木虫 (小有名气)
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:07
同时使用？？？没听说过有这种用法。要么射频溅射，要么直流溅射。金属的话两种都能用，陶瓷靶只能射频
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2楼2009-09-19 21:51:36
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infinite23

铁虫 (初入文坛)
对，是金属，现在想同时使用，看可不可行？
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3楼2009-09-19 22:08:16
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yjyang07

木虫 (著名写手)
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:07
直流的一般只能用来溅射导电的材料，射频的话导电的和绝缘的都是可以的
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天行健，君子以自强不息～～～～～
4楼2009-09-21 08:43:48
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zhrdrc

铜虫 (小有名气)
怎么能同时使用呢？
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5楼2009-09-21 09:15:38
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infinite23

铁虫 (初入文坛)
我是听说可以，但是没查到相关的资料，所以上来问问大家，看看有没有人知道。我现在是想溅射金属，想直流和射频同时使用，该怎么接线？
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6楼2009-09-21 12:46:49
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gaosongsong

新虫 (小有名气)
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:07
好像前一阵子见到过，刚刚替你Google了一下，
“　通过对衬底施加负偏压吸引等离子体中的阳离子对衬底轰击,从而用射频磁控溅射法在水冷透明绦”
一般的磁控溅射系统的基片台部分好像都可以加热冷却加偏压的。
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7楼2009-09-21 14:59:29
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢 12-10 09:08
引用回帖:
Originally posted by gaosongsong at 2009-9-21 14:59:
好像前一阵子见到过，刚刚替你Google了一下，
“　通过对衬底施加负偏压吸引等离子体中的阳离子对衬底轰击,从而用射频磁控溅射法在水冷透明绦”
一般的磁控溅射系统的基片台部分好像都可以加热冷却加偏压的。

楼主说的是对于靶。我觉得不行，因为这相当于交流的某半个周期得到偏压加强，而另半个周期的偏压得到削弱，这有什么意义吗？不懂。
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没有困难创造困难也要上网。
8楼2009-09-21 15:47:31
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qfw_68

版主 (文坛精英)

有尾巴的青蛙
如此一来，相当于加脉冲直流偏压了。
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没有困难创造困难也要上网。
9楼2009-09-21 15:48:39
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tplee_hb

铜虫 (小有名气)
★
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楼主是想有时候用直流有时候用射频呢，还是两个电源同时工作于同一个靶上呢？
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10楼2009-09-21 15:55:20
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