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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】射频磁控溅射镀膜
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316606212

新虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】射频磁控溅射镀膜

请教各位师兄师姐，采用射频磁控溅射镀膜，靶和基片的距离在60mm以内，每次都能正常起辉光，但基片上却什么也没有。会不会是氩离子没能把靶原子打出来呢？有什么办法解决吗？
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1楼 2009-09-08 20:41:34
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chenjin

铁杆木虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
可能是没有自偏压，或者反射功率太大。老电源匹配不好
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6楼2009-09-11 21:01:50
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jsszwutao

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★
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wdwsnnu(金币+1,VIP+0): 9-8 22:18
可能是打出来，但没沉积到基片上，加大一点功率试试，沉积时间也长一点
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2楼2009-09-08 22:15:42
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gtr2008

木虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
顺便检查下气体才纯度，另外不知道你们的设备是否旋转加罩，还有靶的种类都会对镀膜产生影响
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3楼2009-09-09 09:07:44
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316606212

新虫 (初入文坛)
我的靶材是氟化镁，溅射压强我调到0.54pa,溅射时间达50分钟。但射频电源已经用了7、8年了。匹配器显示的pf达600w,而射频功率源电压表显示1350v,电流130ma。两者乘积不到200w.不知道你说的气体纯度，是指氩气吗？
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4楼2009-09-09 11:16:46
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