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光刻胶使用过程中的注意事项已有1人参与
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1、保存: 光刻胶中的光敏组分是非常脆弱的,除了有温度的要求外,对于储存时间和外包装材料有很严格的要求。-般使用 棕色的玻璃瓶包装,套上艷塑料袋, 光刻胶确实是在半年内使用为好。过期后最好同厂家沟通进行调换,因为只有生产商知道里面的组分,才能进行产品的重新调整。还有就是光敏组分是广谱接受光反应的,并环是仅仅紫外光能够使其失效,只是其它波长光需要的时间长而已。 2、光刻胶的涂布温度 : 光刻胶涂布温度一般要和你的室温相同 ,原因是与室温相同可以最大减少光刻胶的温度波动,从而减少工艺波动。 而净化间室温一般是23度 ,所以一般为23度, -般在旋涂的情况下,高于会中间厚,低于会中间薄。同时涂布前，wafer也需要冷板,保证每次涂布wafer的温度-致。 3、涂布时湿度的控制 : 现在光刻胶涂覆工段-般都与自动纯水清洗线连在一 起,很多时候都只考虑此段的洁净度,而疏忽了该段的湿度控制,使得光刻胶涂覆的良品率比较低,在显影时光刻胶脱落严重,起不到保护阻蚀的效果。 4、涂胶后产品的放置 时间的控制 在生产设备出现故障等特殊情况下,浣光刻胶的产品需要保留,保留的时间一般不超过8小时,曝光前如已被感 (即胶膜已失效) , 不能作为正品,需返工处理。 5、前烘温度和时间的控制 前烘的目的是促使胶膜内溶剂充分挥发,使胶膜干燥以增强胶膜与基板表面的粘附性和胶膜的耐磨性。曝光时,掩模版与光刻胶即使接触也不会损伤光刻胶膜和沾污掩模膜,同时只有光刻胶干净、在曝光时,光刻胶才能充分地和光 发生反应。同时注意前烘的温度不能过高,过高会造成光刻胶膜的碳化,从而影响光刻效果。一般情况下 ,前烘的温度取值比后烘坚膜温度稍低-些,时间稍短-些。 6、显影条件的控制 显影时必须控制好显影液的温度、浓度及显影的时间。在-定浓度下的显影液中,温度和时间直接影响的速度,若显影时间不足或温度低,则感光部位的光刻胶不能够完全溶解,留有-层光刻胶,在刻蚀时,这层胶会对膜面进行保护作用,使应该刻蚀的膜留下来。若显影时间过长或温度过高,显影时未被曝光部位的光刻胶也会被从边缘里钻溶。使图案的边缘变差,再严重会使光刻胶大量脱落,形成脱胶，su-8和AZ 光刻胶的需要可以联系我。 发自小木虫IOS客户端 |
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