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shinejesse

金虫 (小有名气)

[交流] 【交流】质谱日常操作交流

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yuzhan

木虫 (正式写手)

Keep moving forward


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by zxz.1982 at 2009-9-10 12:40:


当然是大气压下了,DESI今年确实是原创性改进不多,应该是到了一个瓶颈阶段吧,当然能更好的拓展应用也不错啊
话说回来,每一种离子化方式都有其不足的一方面,所以行业才会不断地向前发展
对了,你说的文章 ...

我一共提到两篇:

http://www.rsc.org/Publishing/Jo ... le.asp?doi=b806810k

http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/ac062382i
32楼2009-09-10 12:57:23
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shinejesse

金虫 (小有名气)


opq691(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 9-8 11:31
CID 英文是 collision-induced dissociation 碰撞诱导解离。通常在真空接口处调节电压发生CID现象,一般是去除溶剂,如果电压增大,也会产生碎片离子。这是一级质谱的原理。CAD collision-activated dissociation 碰撞活化解离。 做二级质谱时,应该是发生在Q2处吧,选择的母离子的进入Q2后 碰撞活化产生子离子,这个过程称为 CAD。

我们用的API3200,CID指的是Q0里面的诱导碰撞的气体,CAD指的是Q3里面的诱导碰撞气体,也就是说,API里的CID&CAD都是指氮气。
  


  


还有一种叫作:源内CID

在串联质谱还不普及的三年前,很多人夸大单级质谱的作用,比如:单级四极杆、LC-TOF、MALDI-TOF,说,液质你不是只看到分子离子峰么?你不是需要更多的碎片信息么?这里,我就可以做CID(其实是源内CID),给你想要的碎片。然后,他就拿一张标样的图,给你show一下,显示低电压时是分子离子峰,提高skimmer或orifice电压后,就可以得到碎片峰。

后来,人们在真正实验中,认识到我们其实不是在做标样,液质的基质干扰和溶剂本底干扰很大,如果不分离出要的离子,直接作CID,会给出一系列不能解释的峰。

所以,现在大家都喜欢LCMSMS了。

在串联四极杆中,源内CID指在离子源内加一定的电压(Source CID),对化合物的离子化进行优化,可减弱溶剂加合离子的影响。

对于Thermo的TSQ仪器,Source CID建议设置在8-12之间,此外加不加Source CID对信号影响应在20%左右,否则可能是仪器出现问题的征兆。

源内CID不能取代LC-MS-MS(即真正的CID或CAD)
2楼2009-09-05 22:25:07
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exw

木虫 (初入文坛)

★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
opq691(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 9-8 11:31
这位同学,你们的API3200有Q0,Q1,Q2,Q3这么多Q啊???

我们的API4000这么只有Q1,Q2,Q3三个四级杆啊,CID和CAD都发生在Q2。

源内CID这个概念是什么时候提出的啊?这个说法与原来的PSD的概念有什么区别啊?
3楼2009-09-06 11:22:11
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shinejesse

金虫 (小有名气)


opq691(金币+1,VIP+0):谢谢回帖交流 9-8 11:31
引用回帖:
Originally posted by exw at 2009-9-6 11:22:
这位同学,你们的API3200有Q0,Q1,Q2,Q3这么多Q啊???

我们的API4000这么只有Q1,Q2,Q3三个四级杆啊,CID和CAD都发生在Q2。

源内CID这个概念是什么时候提出的啊?这个说法与原来的PSD的概念有什么区别 ...

Q0是离子束在进入四级杆前的一个六级杆装置,相当于离子透镜。源内CID就是在离子源处的离子隔离法处,若电压高可以使得离子片段化。时可以调节的
4楼2009-09-06 15:24:15
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