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[交流]
【求助】一.单晶硅表面如何获得较厚的SiO2层二.关于旋转涂膜
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我用浓硫酸、双氧水加热处理单晶硅片几个小时后跟原片电阻率没什么区别呀。什么方法能够得到较厚的SiO2层 另外，热氧化法我还没试，做过的xdjm指点一下，多谢了 还有就是我想在玻璃或是硅片上旋转涂膜，用溶剂将有机前躯体溶解，旋转涂膜然后再热解，得到氧化物膜，不知道用什么溶剂润湿性好，涂出来的膜均匀 [ Last edited by lalahulala on 2009-8-26 at 11:38 ] |
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