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jade_yang

新虫 (初入文坛)

[交流] 求问溅射lift off工艺要点 已有3人参与

在硅上做PT电极的图形,溅射+lift off。胶是5350,大概1-2um,Pt溅射厚度50nm,用丙酮liftoff,但是一洗就掉。
求问是什么原因?考虑做粘附层;不知道图形小有没有关系?(大小为100um*100um)
顺便想问下lift off的手法,可以晃动吗?还是一直静置。
先谢谢了!

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babyoflion

金虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
2楼回答的确切,硅片做图案化pt已经是很成熟的工艺了,增粘层和打底胶去除(表面清洗)没啥问题的,但是前提你要保证显影没有问题

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4楼2021-03-28 09:23:55
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
需要加粘附层Ti,还有你这个太薄了粘连一起剥离下来了。

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2楼2021-03-25 23:38:54
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jade_yang

新虫 (初入文坛)

3楼2021-03-26 09:15:24
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jade_yang

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by MEMSlee at 2021-03-25 23:38:54
需要加粘附层Ti,还有你这个太薄了粘连一起剥离下来了。

不知道为什么内容被屏蔽,可以麻烦再回答一下吗QAQ
5楼2021-03-28 18:26:24
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