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磁控溅射额的WO3，在AZ 300MIF显影液中溶解脱落，衬底为SiO2/Si，有什么好方法避免吗
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各位科研大佬们，我用磁控溅射的一层50 nm的WO3，光刻使用的是负胶工艺，负胶是AZ2035，在经过显影液AZ300MIF显影后后，较小面积的部分WO3出现溶解脱落的情况，大面积区域还在，各位大佬有类似经历吗，特向各位请教如何处理？ 不胜感激！ 祝各位大佬科研顺利，发paper顺利！  |
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