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磁控溅射额的WO3,在AZ 300MIF显影液中溶解脱落,衬底为SiO2/Si,有什么好方法避免吗
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各位科研大佬们,我用磁控溅射的一层50 nm的WO3,光刻使用的是负胶工艺,负胶是AZ2035,在经过显影液AZ300MIF显影后后,较小面积的部分WO3出现溶解脱落的情况,大面积区域还在,各位大佬有类似经历吗,特向各位请教如何处理? 不胜感激! 祝各位大佬科研顺利,发paper顺利! |
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