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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 其他 » 磁控溅射额的WO3，在AZ 300MIF显影液中溶解脱落，衬底为SiO2/Si，有什么好方法避免吗
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袁星星362

新虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射额的WO3，在AZ 300MIF显影液中溶解脱落，衬底为SiO2/Si，有什么好方法避免吗

各位科研大佬们，我用磁控溅射的一层50 nm的WO3，光刻使用的是负胶工艺，负胶是AZ2035，在经过显影液AZ300MIF显影后后，较小面积的部分WO3出现溶解脱落的情况，大面积区域还在，各位大佬有类似经历吗，特向各位请教如何处理？
不胜感激！  祝各位大佬科研顺利，发paper顺利！
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1楼 2021-03-22 15:14:30
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山峰先生

新虫 (小有名气)
楼主解决了嘛

发自小木虫IOS客户端
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2楼2023-12-26 07:01:11
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