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氧化铝介电层被后续工艺中的显影液腐蚀 已有3人参与
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镀了一层50nm的氧化铝薄膜作为场效应管的栅极介质，后续工艺中通过光刻制备电极。选用EPG535正胶，显影液为0.5%NaOH或2.38%TMAH，都发现这层氧化铝被腐蚀了（紫外光刻显影液基本都是强碱性的），有虫子遇到过这种情况吗？如何避免呢，谢谢！ 图片1.png |
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