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芬兰perry

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[交流] 氧化铝介电层被后续工艺中的显影液腐蚀已有3人参与

镀了一层50nm的氧化铝薄膜作为场效应管的栅极介质，后续工艺中通过光刻制备电极。选用EPG535正胶，显影液为0.5%NaOH或2.38%TMAH，都发现这层氧化铝被腐蚀了（紫外光刻显影液基本都是强碱性的），有虫子遇到过这种情况吗？如何避免呢，谢谢！

图片1.png

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金属材料论文润色/翻译怎么收费? 已经有276人回复

1楼2020-10-05 23:21:34

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2楼: Originally posted by babyoflion at 2020-10-07 02:28:08
如果一定要这么做换负胶试试，显影液兼容就可以

请问有推荐的胶吗？我这有AZ5214反转胶，可用作负胶，但显影液也是碱性的。氧化铝主要是被碱性显影液腐蚀

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3楼2020-10-07 12:02:41

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4楼: Originally posted by bobo201266 at 2020-10-07 15:58:34
你确定是氧化铝？

是的呀，一般用氧化铝或者二氧化硅

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5楼2020-10-08 11:20:14

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6楼: Originally posted by bobo201266 at 2020-10-08 14:42:34
你再确认下吧，氧化铝和二氧化硅都不会和显影液反应
...

一般正胶显影液都是强碱性的，会与氧化铝和二氧化硅反应的；Al₂O₃ + 2NaOH = 2NaAlO₂ + H₂O

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7楼2020-10-08 20:51:01

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