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氧化铝介电层被后续工艺中的显影液腐蚀 已有3人参与
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镀了一层50nm的氧化铝薄膜作为场效应管的栅极介质,后续工艺中通过光刻制备电极。选用EPG535正胶,显影液为0.5%NaOH或2.38%TMAH,都发现这层氧化铝被腐蚀了(紫外光刻显影液基本都是强碱性的),有虫子遇到过这种情况吗?如何避免呢,谢谢! 图片1.png |
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