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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 微米和纳米 » yswyx » 如何制备厚度大均匀性好的光刻胶胶厚
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【悬赏金币】回答本帖问题，作者su1227将赠送您 10 个金币

su1227

新虫 (小有名气)

[求助] 如何制备厚度大均匀性好的光刻胶胶厚已有1人参与

想获得80μm以上的光刻胶厚度，需要注意哪些问题，目前做的总是出现掉胶，显影不净等问题

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1楼2020-09-23 19:03:58
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当你当年

新虫 (正式写手)
厚度80um，那你做的线宽多少？

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2楼2020-09-23 19:28:36
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su1227

新虫 (小有名气)
10μm左右

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3楼2020-09-23 20:05:34
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babyoflion

金虫 (著名写手)
10u还叫厚嘛

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4楼2020-09-23 22:06:50
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su1227

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by babyoflion at 2020-09-23 22:06:50
10u还叫厚嘛

你好，是80μm的膜厚，10μm的线宽

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5楼2020-09-23 23:22:01
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)
做不了，基本上曝不开

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6楼2020-09-23 23:53:15
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

估计你用的是SU8。如果是SU8的话，首先胶的选择很重要。建议使用研材微纳的683，其它的SU8，包括进口microchem的，各个系列都有一些限制。
首先你这种接近10:1高宽比的，microchem的2000系列，但是它的粘附性很差。3000系列又最大只能做到5:1。
还有很多其它的工艺细节，比如，光源必须是单色的，显影要用特殊的工具，衬底要做如何的特殊处理等等等等，才又可能做到10:1的高宽比。
建议直接发信给研材微纳的技术邮箱或者销售邮箱进行咨询，或者直接参加他们的SU8光刻培训。
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7楼2020-09-30 16:34:12
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