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water_ice

银虫 (著名写手)

[交流] 【请教】TEM测试对样品的要求怎样?

硅片上面长几十纳米的薄膜材料,通过TEM看截面,不知道对样品大小要求如何,以及如果硅片背面长有几百纳米金属电极,是否可以?
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li1cai2fu3

至尊木虫 (知名作家)

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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢交流 6-15 10:54
没有什么特别的要求,就是截面样品,但是你要粘在铜环上的吧,你的硅片有多厚啊?只要电极材料不影响你的样品就没问题,什么电极材料啊?有没有磁性,有磁性的话最好把他搞掉!
2楼2009-06-15 10:46:51
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lyf2225

金虫 (小有名气)

★ ★
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闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢交流 6-18 17:50
做这种Cross-Section样品很很难的,对粘后切割,磨片,切成直径3mm圆片,粘到钼环上进行离子减薄
3楼2009-06-18 17:40:45
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lilanyan

铜虫 (初入文坛)

★ ★ ★
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闪闪红心(金币+2,VIP+0):谢谢 7-24 09:13
通常都是把试样置于有支持膜的截网上(一般截网是直径为3nm左右,厚度为25~50um的多孔铜网),然后放入电镜中观察,所用的膜必须很薄和均匀,当需要高放大倍数时,可采用碳膜作为支持膜。为获得更清晰的图像,可进行染色处理。
4楼2009-06-18 21:10:57
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hand1980

★ ★
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ufoer(金币+1,VIP+0):3x 7-27 08:40
做肯定是可以的,但通常截面样品制样都是比较难的,需要很有经验,你一定要看截面吗,你也可以想办法把膜取下来捞铜网上看,我们最近试了一种方法做薄膜样品比截面样好些,如果有兴趣可以探讨一下
5楼2009-06-18 21:45:47
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shyanbama

★ ★
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ufoer(金币+1,VIP+0):3x 7-27 08:40
引用回帖:
Originally posted by lilanyan at 2009-6-18 21:10:
通常都是把试样置于有支持膜的截网上(一般截网是直径为3nm左右,厚度为25~50um的多孔铜网),然后放入电镜中观察,所用的膜必须很薄和均匀,当需要高放大倍数时,可采用碳膜作为支持膜。为获得更清晰的图像,可进 ...

(一般截网是直径为3mm微米左右,),
6楼2009-06-18 21:47:56
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xuyulai

木虫 (正式写手)

★ ★
闪闪红心(金币+1,VIP+0):谢谢交流 7-24 09:13
ufoer(金币+1,VIP+0):3x 7-27 08:40
大小是直径3mm,厚度要磨到70um一下,反正越薄越好
7楼2009-07-24 09:06:20
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