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EBL套刻 已有1人参与
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想问一下现在我有石英基片上镀了60nmAg、10nmSiO2，现在想先做一次EBL镀上Au标记，100nm，然后用EBL做两次套刻，这种方案可以吗？ 发自小木虫IOS客户端 |
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yswyx 
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【答案】应助回帖
supernatural: 不要宣传 2020-05-12 11:05:22
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描述的不清楚，所以只能猜你的方案。 你是想分别做sio2，ag和石英的图案吗？还是只做前两者？ 无论哪一种，你的方案都是不对的。因为歡au标记和ag衬底会重叠，电子束光刻机无法清晰识别出au和ag层的区别，100nm的深度区别不够。因为二次电子的台阶识别能力是比较差的。 好的方法是，直接电子束光刻，先做ag层的图案，同时做ag标记。然后溅射sio2，再做电子束光刻（限制是sio的图案必须在ag图案范围内，如果是你是电极开窗口，那肯定是如此）。如果sio的图案超出ag的图案范围，那就需要在石英衬底上预先刻蚀500nm以上深度的标记，来作为后续电子束光刻的对准标记。 |
2楼2019-12-30 17:03:01
3楼2020-02-13 10:16:02
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