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xjking7051

新虫 (初入文坛)


已领完
用氢氧化钠对SiO2/C纤维材料中二氧化硅的刻蚀
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通过静电纺丝以及随后的煅烧过程得到二氧化硅/碳纤维,现在想对纤维中的二氧化硅进行刻蚀,不想完全刻蚀掉,想要刻蚀一定的比例,想咨询下如何控制刻蚀的比例,求大神的指导,谢谢

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kakarote

金虫 (文坛精英)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
这得看你准备用什么来刻蚀。

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7楼2019-11-17 13:54:12
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xjking7051

新虫 (初入文坛)


引用回帖:
7楼: Originally posted by kakarote at 2019-11-17 13:54:12
这得看你准备用什么来刻蚀。

准备用氢氧化钠,你有什么建议可以说一下吗

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8楼2019-11-17 13:59:24
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kakarote

金虫 (文坛精英)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
8楼: Originally posted by xjking7051 at 2019-11-17 13:59:24
准备用氢氧化钠,你有什么建议可以说一下吗
...

氢氟酸或者含氟等离子体。

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9楼2019-11-17 15:45:33
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xjking7051

新虫 (初入文坛)


引用回帖:
9楼: originally posted by kakarote at 2019-11-17 15:45:33
氢氟酸或者含氟等离子体。:d🤗
...

用这两种方法的话,如何控制刻蚀的比例呢,我想刻蚀一半,留下一半,以及如何控制刻蚀的均匀性

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10楼2019-11-17 15:54:06
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songbotao4楼
2019-11-17 13:06   回复  
xjking7051(金币+1): 谢谢参与
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2019-11-17 13:08   回复  
xjking7051(金币+1): 谢谢参与
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2019-11-17 12:58   回复  
xjking7051(金币+1): 谢谢参与
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飞雪阁3楼
2019-11-17 12:58   回复  
xjking7051(金币+1): 谢谢参与
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qiulei7186楼
2019-11-17 13:12   回复  
xjking7051(金币+1): 谢谢参与
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