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用氢氧化钠对SiO2/C纤维材料中二氧化硅的刻蚀
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xjking7051
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用氢氧化钠对SiO2/C纤维材料中二氧化硅的刻蚀
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通过静电纺丝以及随后的煅烧过程得到二氧化硅/碳纤维,现在想对纤维中的二氧化硅进行刻蚀,不想完全刻蚀掉,想要刻蚀一定的比例,想咨询下如何控制刻蚀的比例,求大神的指导,谢谢
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这得看你准备用什么来刻蚀。
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7楼
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Originally posted by
kakarote
at 2019-11-17 13:54:12
这得看你准备用什么来刻蚀。
准备用氢氧化钠,你有什么建议可以说一下吗
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8楼
2019-11-17 13:59:24
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8楼
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xjking7051
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准备用氢氧化钠,你有什么建议可以说一下吗
...
氢氟酸或者含氟等离子体。
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9楼
2019-11-17 15:45:33
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kakarote
at 2019-11-17 15:45:33
氢氟酸或者含氟等离子体。:d🤗
...
用这两种方法的话,如何控制刻蚀的比例呢,我想刻蚀一半,留下一半,以及如何控制刻蚀的均匀性
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10楼
2019-11-17 15:54:06
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xjking7051
at 2019-11-17 15:54:06
用这两种方法的话,如何控制刻蚀的比例呢,我想刻蚀一半,留下一半,以及如何控制刻蚀的均匀性
...
不知道你的样品构造,不好说。反正想要缓慢刻蚀,且均匀性好必须得慢速,周围的环境也要均匀。
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11楼
2019-11-18 00:01:42
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hdchina2010
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2019-11-17 12:58
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飞雪阁
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sunny11223
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qiulei718
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