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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 用氢氧化钠对SiO2/C纤维材料中二氧化硅的刻蚀
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xjking7051

新虫 (初入文坛)
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用氢氧化钠对SiO2/C纤维材料中二氧化硅的刻蚀
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通过静电纺丝以及随后的煅烧过程得到二氧化硅/碳纤维，现在想对纤维中的二氧化硅进行刻蚀，不想完全刻蚀掉，想要刻蚀一定的比例，想咨询下如何控制刻蚀的比例，求大神的指导，谢谢

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1楼2019-11-17 12:57:04
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kakarote

金虫 (文坛精英)
★
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这得看你准备用什么来刻蚀。

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7楼2019-11-17 13:54:12
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kakarote

金虫 (文坛精英)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
8楼: Originally posted by xjking7051 at 2019-11-17 13:59:24
准备用氢氧化钠，你有什么建议可以说一下吗
...

氢氟酸或者含氟等离子体。

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9楼2019-11-17 15:45:33
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kakarote

金虫 (文坛精英)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
10楼: Originally posted by xjking7051 at 2019-11-17 15:54:06
用这两种方法的话，如何控制刻蚀的比例呢，我想刻蚀一半，留下一半，以及如何控制刻蚀的均匀性

...

不知道你的样品构造，不好说。反正想要缓慢刻蚀，且均匀性好必须得慢速，周围的环境也要均匀。

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11楼2019-11-18 00:01:42
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