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KOUHh

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[交流] 磁控溅射纯Cr氧含量高已有4人参与

用直流磁控溅射纯金属Cr，表面EDS面扫O含量高（15at%），请教这是什么原因

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1楼 2019-10-22 09:02:11

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bobo201266

金虫 (正式写手)

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C含量高吗？

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3楼2019-10-22 18:44:29

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091820053

禁虫 (知名作家)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

本帖内容被屏蔽

2楼2019-10-22 11:07:12

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KOUHh

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2楼: Originally posted by 091820053 at 2019-10-22 11:07:12
那你扫描一下靶材的氧含量

靶材太大没法扫啊

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4楼2019-10-24 09:49:27

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引用回帖:

3楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-10-22 18:44:29
C含量高吗？

C含量不高

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5楼2019-10-24 09:49:49

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