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KOUHh

新虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射纯Cr氧含量高 已有4人参与

用直流磁控溅射纯金属Cr,表面EDS面扫O含量高(15at%),请教这是什么原因

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091820053

禁虫 (知名作家)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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2楼2019-10-22 11:07:12
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bobo201266

金虫 (正式写手)

3楼2019-10-22 18:44:29
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KOUHh

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2019-10-22 11:07:12
那你扫描一下靶材的氧含量

靶材太大没法扫啊

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4楼2019-10-24 09:49:27
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KOUHh

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-10-22 18:44:29
C含量高吗?

C含量不高

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5楼2019-10-24 09:49:49
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微微笑yb

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
Cr具有吸氧的特性,考虑下溅射环境
6楼2019-10-24 14:57:01
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hitprint

捐助贵宾 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
O含量高原因:
1.真空封闭问题
2.所用气体纯度问题
3.制备后样品到测试样品的保存问题


有在线监控设备,比如质谱一类的,可排除部分原因
7楼2019-10-28 19:10:42
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KOUHh

新虫 (小有名气)

用磁控溅射在SiC表面做的Cr涂层,截面处结合不太好有分层,而且涂层中有贯穿裂纹,请问这是什么原因?

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8楼2019-11-04 12:19:25
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KOUHh

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-10-22 18:44:29
C含量高吗?

请问C含量高的话是什么原因?

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9楼2019-12-05 13:02:02
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KOUHh

新虫 (小有名气)

引用回帖:
7楼: Originally posted by hitprint at 2019-10-28 19:10:42
O含量高原因:
1.真空封闭问题
2.所用气体纯度问题
3.制备后样品到测试样品的保存问题


有在线监控设备,比如质谱一类的,可排除部分原因

请问磁控溅射制备的涂层结合力差可能是什么原因?基底是SiC陶瓷热膨胀系数4.5,涂层是Cr,热膨胀系数6.2,是工艺参数问题吗?

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10楼2019-12-06 09:25:34
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