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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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KOUHh

新虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射纯Cr氧含量高 已有4人参与

用直流磁控溅射纯金属Cr，表面EDS面扫O含量高（15at%），请教这是什么原因

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1楼 2019-10-22 09:02:11
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091820053

禁虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
2楼2019-10-22 11:07:12
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bobo201266

金虫 (正式写手)
C含量高吗？

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3楼2019-10-22 18:44:29
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2019-10-22 11:07:12
那你扫描一下靶材的氧含量

靶材太大没法扫啊

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4楼2019-10-24 09:49:27
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-10-22 18:44:29
C含量高吗？

C含量不高

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5楼2019-10-24 09:49:49
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微微笑yb

新虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
Cr具有吸氧的特性，考虑下溅射环境
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6楼2019-10-24 14:57:01
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hitprint

捐助贵宾 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
O含量高原因：
1.真空封闭问题
2.所用气体纯度问题
3.制备后样品到测试样品的保存问题


有在线监控设备，比如质谱一类的，可排除部分原因
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7楼2019-10-28 19:10:42
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KOUHh

新虫 (小有名气)
用磁控溅射在SiC表面做的Cr涂层，截面处结合不太好有分层，而且涂层中有贯穿裂纹，请问这是什么原因？

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8楼2019-11-04 12:19:25
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-10-22 18:44:29
C含量高吗？

请问C含量高的话是什么原因？

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9楼2019-12-05 13:02:02
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
7楼: Originally posted by hitprint at 2019-10-28 19:10:42
O含量高原因：
1.真空封闭问题
2.所用气体纯度问题
3.制备后样品到测试样品的保存问题


有在线监控设备，比如质谱一类的，可排除部分原因

请问磁控溅射制备的涂层结合力差可能是什么原因？基底是SiC陶瓷热膨胀系数4.5，涂层是Cr，热膨胀系数6.2，是工艺参数问题吗？

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10楼2019-12-06 09:25:34
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