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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 磁控溅射纯Cr氧含量高
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KOUHh

新虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射纯Cr氧含量高 已有4人参与

用直流磁控溅射纯金属Cr，表面EDS面扫O含量高（15at%），请教这是什么原因

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1楼 2019-10-22 09:02:11
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
7楼: Originally posted by hitprint at 2019-10-28 19:10:42
O含量高原因：
1.真空封闭问题
2.所用气体纯度问题
3.制备后样品到测试样品的保存问题


有在线监控设备，比如质谱一类的，可排除部分原因

请问磁控溅射制备的涂层结合力差可能是什么原因？基底是SiC陶瓷热膨胀系数4.5，涂层是Cr，热膨胀系数6.2，是工艺参数问题吗？

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10楼2019-12-06 09:25:34
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091820053

禁虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
2楼2019-10-22 11:07:12
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bobo201266

金虫 (正式写手)
C含量高吗？

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3楼2019-10-22 18:44:29
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KOUHh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2019-10-22 11:07:12
那你扫描一下靶材的氧含量

靶材太大没法扫啊

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4楼2019-10-24 09:49:27
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