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xshahahaha

木虫 (正式写手)

[求助] 请问用磁控溅射镀1~5nm的金薄膜需要怎样调参数?大佬们请帮帮我。 已有1人参与

如题,我想镀连续的超薄金薄膜。请问真空度,样品台高度,直流电源功率等参数怎么设置呢?
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bobo201266

金虫 (正式写手)

镀金和别的金属差不多的啊?还要看你具体设备的。

发自小木虫Android客户端
2楼2019-09-08 10:38:42
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xshahahaha

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-09-08 05:38:42
镀金和别的金属差不多的啊?还要看你具体设备的。

就是实验室用的小型的磁控溅射机。我刚开始学这个设备的操作。
就这样吧!
3楼2019-09-08 10:50:29
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xshahahaha

木虫 (正式写手)

有磁控溅射的大神么
就这样吧!
4楼2019-09-08 12:21:26
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bobo201266

金虫 (正式写手)

你看下设备说明,一般都会有的。

发自小木虫Android客户端
5楼2019-09-09 09:12:57
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CF_W

铁虫 (初入文坛)

具体看你设备的速率精度,另外就是晶振片测膜厚的精度。如果不放心也可以手动镀膜
6楼2019-09-09 09:31:22
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babyoflion

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
xshahahaha: 金币+6 2019-09-15 12:25:02
磁控溅射1-5nm还是比较难度的,和蒸发速率有密切关系,你把均匀溅射的速率调低了 厚度不自然而然就控制下来了么 影响速度的主要因素为靶间距和功率 其他的影响比较小
7楼2019-09-09 11:30:56
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xshahahaha

木虫 (正式写手)

引用回帖:
7楼: Originally posted by babyoflion at 2019-09-09 06:30:56
磁控溅射1-5nm还是比较难度的,和蒸发速率有密切关系,你把均匀溅射的速率调低了 厚度不自然而然就控制下来了么 影响速度的主要因素为靶间距和功率 其他的影响比较小

受教了。谢谢谢谢
就这样吧!
8楼2019-09-12 17:24:57
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13823359210

新虫 (小有名气)

9楼2019-09-26 11:01:41
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