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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 关于磁控溅射和离子溅射的几个问题
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kevin123581

金虫 (正式写手)

[交流] 关于磁控溅射和离子溅射的几个问题 已有2人参与

我是做激光沉积镀膜的，没有做过磁控溅射（magnetron）和离子溅射（ion beam sputtering）相关的工作，所以想请教下大家几个相关问题：
上述两种方法是否都能同时沉积两种不同的靶材？
两种靶材的沉积速率是否能单独控制？
对于其中一种靶材的沉积速率，在溅射过程中能否改变？ 比如沉积率给定一个特定曲线？


谢谢大家
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1楼 2019-08-26 11:13:18
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L小懒虫

木虫 (著名写手)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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kevin123581: 金币+10 2019-09-09 12:54:59
1.可以  2.看设备，一般都可以单独控制 3.多层，分段控制程序可以对每一阶段单独控制

发自小木虫IOS客户端
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2楼2019-09-09 07:00:41
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CF_W

铁虫 (初入文坛)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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kevin123581: 金币+10 2019-09-09 12:54:49
这个是可以的，但是两个蒸发源必须都要是独立的电源控制器。沉积速率和特定曲线是要看设备了。通常情况下速率都是可以手动改变的
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3楼2019-09-09 10:31:09
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kevin123581

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by CF_W at 2019-09-09 10:31:09
这个是可以的，但是两个蒸发源必须都要是独立的电源控制器。沉积速率和特定曲线是要看设备了。通常情况下速率都是可以手动改变的

好的 非常感谢
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4楼2019-09-09 12:54:43
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kevin123581

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by L小懒虫 at 2019-09-09 07:00:41
1.可以  2.看设备，一般都可以单独控制 3.多层，分段控制程序可以对每一阶段单独控制

谢谢
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5楼2019-09-09 12:55:13
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余杭镇李逍遥

禁虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
6楼2019-09-09 16:36:06
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wang800319

新虫 (初入文坛)
可以
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沈阳科仪
7楼2019-09-11 16:50:06
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