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kevin123581金虫 (正式写手)
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[交流]
关于磁控溅射和离子溅射的几个问题 已有2人参与
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我是做激光沉积镀膜的，没有做过磁控溅射（magnetron）和离子溅射（ion beam sputtering）相关的工作，所以想请教下大家几个相关问题： 上述两种方法是否都能同时沉积两种不同的靶材？ 两种靶材的沉积速率是否能单独控制？ 对于其中一种靶材的沉积速率，在溅射过程中能否改变？ 比如沉积率给定一个特定曲线？ 谢谢大家 |
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kevin123581: 金币+10 2019-09-09 12:54:59
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kevin123581: 金币+10 2019-09-09 12:54:59
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1.可以 2.看设备，一般都可以单独控制 3.多层，分段控制程序可以对每一阶段单独控制 发自小木虫IOS客户端 |
2楼2019-09-09 07:00:41
3楼2019-09-09 10:31:09
kevin123581
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5楼2019-09-09 12:55:13
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6楼2019-09-09 16:36:06
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