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zhenzhen2006

[交流] 【请教】请教一个磁控溅射的问题

大家好

我在磁控溅射镀TiN膜时发现,在调好电流以后,随着时间的增加,放电电压逐渐降低

气压也慢慢减小,虽然幅度不大

但是导致参数不稳定

请教哪位大侠知道原因,告知一下小弟,是否跟温度升高有关呢?
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yjyang07

木虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
这个可能是有射频电源的性能决定的
天行健,君子以自强不息~~~~~
2楼2009-08-07 12:03:00
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chenfire

木虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by yjyang07 at 2009-8-7 12:03:
这个可能是有射频电源的性能决定的

看楼主的表达,用的应该是直流电源。
楼主是直流反应溅射还是直接溅射?
即通氮气打金属Ti靶,还是直接溅射TiN靶材?
气压怎么会降低呢?是动态通气吗?
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
3楼2009-08-07 13:05:40
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郭立强

铁杆木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
跟温度关系不大,可能不是加热系统的原因。
电流调整后是否是固定的呢?如果是原因就容易分析了
4楼2009-08-07 14:50:45
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xiongbijun

金虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
电流恒定就行,气压减小是不是因为氮气供应的问题?
人之所以痛苦,是因为在追求错误的东西
5楼2009-08-07 16:18:32
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yupo54

新虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
有两方面原因,1,气压降低导致,保持气压恒定;2靶中毒
6楼2009-08-12 11:03:53
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