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dgf2008

主管区长 (知名作家)

不要鄙视看帖不回的人!!

优秀区长

加适量的强碱溶液试试

NaOH或KOH,最好估算一下所需消耗的量,分几次让强碱与SiO2反应
百人计划,千人计划,万人计划,百千万人才计划
11楼2009-05-22 19:55:51
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GrasaVampiro

专家顾问 (职业作家)

微信XGBerlin

优秀版主

EBL+RIE
从此不问江湖事
12楼2009-05-22 23:35:55
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tomcobra

木虫 (正式写手)


chenfire(金币+1,VIP+0):谢谢 5-24 17:14
FIB或是EB了,激光不可能。衍射极限啊!
13楼2009-05-22 23:56:55
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swws16

木虫 (小有名气)

E-beam lithography
14楼2009-05-23 00:15:52
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GrasaVampiro

专家顾问 (职业作家)

微信XGBerlin

优秀版主


chenfire(金币+1,VIP+0):谢谢 5-24 17:13
nanoimprint
dip pen nanolithography
能实现小到32纳,

批量小的话,EB直写最合适,批量的大,EBL做个mask,然后vuv加浸入能实现到32纳米,但国内的做到多少,不知道,中芯国际貌似是最好的
从此不问江湖事
15楼2009-05-23 02:54:57
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dingyanhuai

木虫 (小有名气)

直接纳米压痕也可以
16楼2009-05-23 07:57:48
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catcyq

新虫 (初入文坛)

100nm可以用电子束曝光来做掩膜,不用光刻。然后再反应离子刻蚀
17楼2009-05-24 16:45:00
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phyzhao

银虫 (小有名气)

FIB


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
可以用FIB(聚焦离子束)直接刻蚀
18楼2009-06-12 09:07:42
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wildcat

铁虫 (初入文坛)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
如果是单件或小批量,FIB可能是唯一解决手段。
19楼2009-06-15 15:21:17
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renerve

木虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
能不能利用相分离办法呢 我是做多孔的
20楼2009-06-17 14:09:18
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