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xiaoying16

铜虫 (正式写手)

[交流] SBA-15负载后孔径为4nm，为什么？

SBA-15负载活性组分，负载后做BET，发现除了原SBA-15后孔径由原来的7.7nm降低为6.4nm后，在4nm附近又出现一个小峰，想问问大家这个4nm左右的峰是怎么形成的，谢谢！
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1楼 2009-05-15 09:23:18
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yunbao226

金虫 (正式写手)
★
xiaoying16(金币+1):谢谢参与
孔径由原来的7.7nm降低为6.4nm，是由于活性组分堵塞部分孔道造成，
而孔分布在4nm左右的峰是假峰—是由张力强度效应（TSE现象）造成的。
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2楼2009-05-15 09:31:37
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xiaoying16

铜虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by yunbao226 at 2009-5-15 09:31:
孔径由原来的7.7nm降低为6.4nm，是由于活性组分堵塞部分孔道造成，
而孔分布在4nm左右的峰是假峰—是由张力强度效应（TSE现象）造成的。

谢谢！假峰的说发可以给出文献吗？
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3楼2009-05-15 09:36:39
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WG222

木虫 (正式写手)
★
xiaoying16(金币+1):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by xiaoying16 at 2009-5-15 09:36:

谢谢！假峰的说发可以给出文献吗？

Groen, J.C., L.A.A. Peffer, and J. Perez-Ramirez. Microporous and Mesoporous Materials, 2003. 60(1-3): 1-17
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4楼2009-05-17 00:03:36
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radiolaria

铜虫 (正式写手)
★
xiaoying16(金币+1):谢谢参与
说清楚是吸附支还是脱附支计算的孔分布，TSE出现在脱附支，不可信。
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5楼2009-05-17 12:25:53
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xiaoying16

铜虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by radiolaria at 2009-5-17 12:25:
说清楚是吸附支还是脱附支计算的孔分布，TSE出现在脱附支，不可信。

不知道是根据脱附支还是吸附支，试验给出的孔分布，只知道是根据BJH方法计算的。
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6楼2009-05-17 16:21:30
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WG222

木虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by xiaoying16 at 2009-5-17 16:21:

不知道是根据脱附支还是吸附支，试验给出的孔分布，只知道是根据BJH方法计算的。

按照你的描述，应该是用脱附支算的。
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7楼2009-05-17 17:10:40
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xinyutianz

禁虫 (正式写手)
★
xiaoying16(金币+1):谢谢参与
本帖内容被屏蔽
8楼2009-05-17 19:55:14
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xiaoying16

铜虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by xinyutianz at 2009-5-17 19:55:
一般做孔径分布使用脱附曲线做的，若在4nm出现小峰，可以用吸附曲线做一下孔径分布曲线，若是在此处出现同样的峰，说明是双孔分布！若是没有，说明是假峰，那么孔径分布曲线用吸附曲线就可以啦！

孔径分布可以自己计算啊？一直以为是仪器自动给出的。那请教一下怎么计算呢？
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9楼2009-05-18 14:07:21
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fatzhxd

金虫 (著名写手)
★
xiaoying16(金币+1):谢谢参与
4nm 出的峰出现在脱附支，吸附支没有出现这种情况，通过阅读文献，大家一般都用脱附支，那这种情况怎么办呢？
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10楼2009-05-18 16:39:16
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