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电子束蒸镀Au膜的速率一般是多少？
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| CVD生长的二硫化钼制作电极，采用电子束蒸镀金膜，设置的速率是0.3埃/s，厚度50nm，但是蒸镀出来的厚度只有20nm，而且做lift-off金膜全掉了！想问一下，电子束蒸镀金的速率一般设为多少比较合适呢？ |
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2楼2018-11-09 15:44:31
5楼2018-11-09 15:56:21
9楼2018-11-09 18:13:43
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17楼2018-11-15 06:53:22
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youngen3楼
2018-11-09 15:48
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tzynew4楼
2018-11-09 15:55
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nono20097楼
2018-11-09 16:57
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2018-11-09 17:01
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xiaoqiuqiu2010楼
2018-11-09 21:55
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Biotage11楼
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kingluck12楼
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sz_kebaoyuan13楼
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psylhh14楼
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miaojiabing15楼
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yanbodr20楼
2018-11-16 18:31
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