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电子束蒸镀Au膜的速率一般是多少?
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| CVD生长的二硫化钼制作电极,采用电子束蒸镀金膜,设置的速率是0.3埃/s,厚度50nm,但是蒸镀出来的厚度只有20nm,而且做lift-off金膜全掉了!想问一下,电子束蒸镀金的速率一般设为多少比较合适呢? |
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2楼2018-11-09 15:44:31
5楼2018-11-09 15:56:21
9楼2018-11-09 18:13:43
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17楼2018-11-15 06:53:22
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youngen3楼
2018-11-09 15:48
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tzynew4楼
2018-11-09 15:55
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2018-11-09 16:07
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nono20097楼
2018-11-09 16:57
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2018-11-09 17:01
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xiaoqiuqiu2010楼
2018-11-09 21:55
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Biotage11楼
2018-11-10 12:41
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kingluck12楼
2018-11-10 12:50
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sz_kebaoyuan13楼
2018-11-10 12:51
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psylhh14楼
2018-11-10 19:56
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miaojiabing15楼
2018-11-12 08:19
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youngen16楼
2018-11-13 18:41
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2018-11-16 07:52
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shenrenren19楼
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yanbodr20楼
2018-11-16 18:31
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