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xrd量少,没有研磨,峰位移,强度会有影响吗 已有3人参与
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1.目前做了一个Fe2O3@Si Si层有50nm更高一些,前驱体不均匀sem判断不明显,扫不出来了Si的峰(20左右),用纯硅球也扫不出来,我们的仪器有问题吗? 2.另外一个晶体NiS 或者硅球和这类似的去扫xrd,产率低时,测试量少,小台子都铺不满,粉末不算太均匀,肉眼可见,这种对测试的图像会有影响吗,谢谢各位 发自小木虫Android客户端 |
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2楼2018-10-28 09:11:33
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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3楼2018-10-28 09:50:21
4楼2018-10-28 10:18:34
5楼2018-10-30 10:19:56
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