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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【请教】磁控溅射法能制备Fe3O4薄膜或者颗粒吗？
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楼1970-01-01 08:00:00
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bingbingbing

★ ★
dgf2008(金币+2,VIP+0):谢谢 4-8 22:22
可以制备的。
直流磁控溅射法：靶座表面磁场4000Oe可以保证2.5毫米铁靶起辉，调整氩气与氧气比例，进入溅射腔之前充分混合，可以得到Fe3O4。
射频磁控溅射法：对靶座表面磁场也有一定要求，采用陶瓷靶Fe3O4，溅射过程中最好也通入一定氧气。
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9楼2009-04-08 21:29:55
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ufoer

荣誉版主 (著名写手)

PNNL- new life
★
dgf2008(金币+1,VIP+0):谢谢应助！！ 4-5 22:53
Fe3O4薄膜是可以制备的，但由于Fe3O4靶不导电，估计你得用射频溅射。颗粒不能制备
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xxxxxxxxxxxxx
2楼2009-04-05 11:09:04
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碧海蓝天5087

引用回帖:
Originally posted by ufoer at 2009-4-5 11:09:
Fe3O4薄膜是可以制备的，但由于Fe3O4靶不导电，估计你得用射频溅射。颗粒不能制备

您说的意思是直接用Fe3O4陶瓷靶溅射？
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3楼2009-04-05 12:33:52
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sensing5668

木虫 (小有名气)
★
dgf2008(金币+1,VIP+0):谢谢应助！！ 4-5 22:53
普通的磁控溅射用磁性靶，制备磁性薄膜还是有些难度的，一般用对靶，或是电磁靶
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4楼2009-04-05 21:53:12
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