[交流] 【请教】磁控溅射法能制备Fe3O4薄膜或者颗粒吗？

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1楼 2009-04-05 09:09:05

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ufoer

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dgf2008(金币+1,VIP+0):谢谢应助！！ 4-5 22:53

Fe3O4薄膜是可以制备的，但由于Fe3O4靶不导电，估计你得用射频溅射。颗粒不能制备

xxxxxxxxxxxxx

2楼2009-04-05 11:09:04

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碧海蓝天5087

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Originally posted by ufoer at 2009-4-5 11:09:
Fe3O4薄膜是可以制备的，但由于Fe3O4靶不导电，估计你得用射频溅射。颗粒不能制备

您说的意思是直接用Fe3O4陶瓷靶溅射？

3楼2009-04-05 12:33:52

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sensing5668

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普通的磁控溅射用磁性靶，制备磁性薄膜还是有些难度的，一般用对靶，或是电磁靶

4楼2009-04-05 21:53:12

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碧海蓝天5087

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Originally posted by sensing5668 at 2009-4-5 21:53:
普通的磁控溅射用磁性靶，制备磁性薄膜还是有些难度的，一般用对靶，或是电磁靶

我们的装置就是对向靶的，一般得到的好像是Fe2O3，有什么好办法让他生成Fe2O4？谢啦！

5楼2009-04-06 00:04:40

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sensing5668

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Originally posted by sensing5668 at 2009-4-5 21:53:
普通的磁控溅射用磁性靶，制备磁性薄膜还是有些难度的，一般用对靶，或是电磁靶

这个大概需要摸索下磁控溅射的条件，这种Fe的氧化物不很常见啊

6楼2009-04-07 22:03:11

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zhangwj

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哇啊～～排队学习一下！

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7楼2009-04-07 23:43:32

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doublewei

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memser(金币+1,VIP+0):感谢应助，欢迎常来微纳版，非常感谢啊：） 4-8 20:38

调节Ar/O2的比例。当你的氧气含量保持在生成FeO和Fe2O3的中间某一值时，可能就能制的

8楼2009-04-08 19:51:27

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bingbingbing

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dgf2008(金币+2,VIP+0):谢谢 4-8 22:22

可以制备的。
直流磁控溅射法：靶座表面磁场4000Oe可以保证2.5毫米铁靶起辉，调整氩气与氧气比例，进入溅射腔之前充分混合，可以得到Fe3O4。
射频磁控溅射法：对靶座表面磁场也有一定要求，采用陶瓷靶Fe3O4，溅射过程中最好也通入一定氧气。

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9楼2009-04-08 21:29:55

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ufoer

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memser(金币+1,VIP+0):感谢提供帮助，欢迎常来微纳版交流、讨论！期待您介绍更多的朋友来这里！ 4-9 11:24

是啊，何不直接做Fe3O4的陶瓷靶呢。然后在溅射过程中再稍微改变一下氧氩比，就可以很容易地控制成分