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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 有关PVD制备薄膜的沉积机理的两三个问题
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XSM815498719

铁虫 (小有名气)

[求助] 有关PVD制备薄膜的沉积机理的两三个问题

以电弧离子镀为例，由于偏压的加速作用，沉积粒子会轰击到基材表面，从而形成薄膜，这个过程中小弟有三个疑惑麻烦大家帮忙解释下：

1. 在沉积的过程会通入Ar气，并使其离化成Al+, 那么Al+应该也受偏压的作用朝基材轰击，那么为什么涂层上检测不到Ar的存在，最后轰击到基材的Al是以什么形式存在。

2. 以沉积TiN为例，通入的N2会电离成N负离子，此时负偏压会吸引Ti离子而排斥N负离子朝基材运动，那么最终在基材上的TiN是怎么生成的。

3. 如上所说的沉积离子大多带电荷，在沉积到基材后，这些电荷是怎么被中和掉的，特别是当基材为绝缘体时（如玻璃）
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涂层开发工程师，微信xsm815498719
1楼 2018-08-24 20:21:03
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再见后定诺

木虫 (小有名气)
第一个问题能错三次，写成AL，楼主需要了解的问题看来还远不止这些！
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9楼2018-08-30 16:16:13
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hugou2008

金虫 (小有名气)
TiN先生成（气相），再沉积    N2气氛等离子主要是N2+，不是N的负离子     等离子体跟基体里，电子的移动是相对自由的

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11楼2019-02-04 15:33:49
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普通回帖

XSM815498719

铁虫 (小有名气)
不要沉啊
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涂层开发工程师，微信xsm815498719
2楼2018-08-26 22:50:57
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王龙权

木虫 (著名写手)
氩气是惰性气体 不与基体发生反应 氮气可以

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3楼2018-08-27 07:43:02
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XSM815498719

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 王龙权 at 2018-08-27 07:43:02
氩气是惰性气体 不与基体发生反应 氮气可以

比如我生成TiN,这个过程是在飞行的过程中完成的还是在基材表面完成的
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涂层开发工程师，微信xsm815498719
4楼2018-08-27 17:47:11
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luobingchi

新虫 (小有名气)
氩气在薄膜内有夹杂，含量比较少，一般以气体原子形式，夹在薄膜的缺陷，空洞里。边刻蚀边测量可以发现氩

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5楼2018-08-27 22:50:26
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luobingchi

新虫 (小有名气)
沉积粒子应该是大多不带电，沉积基材后，会电荷积累，大约有几伏至十几伏电压，会通过等离子体导电中和部分电荷，纯属个人观点。

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6楼2018-08-27 22:58:32
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王龙权

木虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by XSM815498719 at 2018-08-27 17:47:11
比如我生成TiN,这个过程是在飞行的过程中完成的还是在基材表面完成的...

个人认为主要在基材表面形成

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7楼2018-08-28 07:45:12
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王龙权

木虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by XSM815498719 at 2018-08-27 17:47:11
比如我生成TiN,这个过程是在飞行的过程中完成的还是在基材表面完成的...

还有就是 这种反应镀膜 可能引起 靶中毒现象

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8楼2018-08-28 07:47:36
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XSM815498719

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
9楼: Originally posted by 再见后定诺 at 2018-08-30 16:16:13
第一个问题能错三次，写成AL，楼主需要了解的问题看来还远不止这些！

不好意思，刚开始就知道写错了是Ar，但是改不了只能这样了。对于我提的问题，还望给出宝贵建议。
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涂层开发工程师，微信xsm815498719
10楼2018-08-31 20:08:41
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