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XSM815498719铁虫 (小有名气)
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[求助]
有关PVD制备薄膜的沉积机理的两三个问题
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以电弧离子镀为例，由于偏压的加速作用，沉积粒子会轰击到基材表面，从而形成薄膜，这个过程中小弟有三个疑惑麻烦大家帮忙解释下： 1. 在沉积的过程会通入Ar气，并使其离化成Al+, 那么Al+应该也受偏压的作用朝基材轰击，那么为什么涂层上检测不到Ar的存在，最后轰击到基材的Al是以什么形式存在。 2. 以沉积TiN为例，通入的N2会电离成N负离子，此时负偏压会吸引Ti离子而排斥N负离子朝基材运动，那么最终在基材上的TiN是怎么生成的。 3. 如上所说的沉积离子大多带电荷，在沉积到基材后，这些电荷是怎么被中和掉的，特别是当基材为绝缘体时（如玻璃） |
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