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测金属薄膜表面自然氧化层的不超过几个nm的厚度,可以用什么测试方法/仪器呢? 已有7人参与
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想 请教一下大家,如果要测Si(111)/NiFe薄膜表面氧化层厚度,用什么方法合适呢?表面是自然氧化的,没通氧气没退火,所以氧化层很薄,XPS计算拟合出来还不到1nm,最多也就一两个个nm吧,薄膜总共几十nm。 之前问过TEM,测试老师说取样很难,会有很多假相,他只试过几个nm的测试,所以很有可能做不出来。 请问大家,通常这种厚度的,用什么方法更好呢? |
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薄膜材料和器件表征 |
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shahuhu123 
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2楼2018-08-15 14:01:05
QQ2668174903
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7楼2018-08-16 14:24:35
颐光科技
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