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测金属薄膜表面自然氧化层的不超过几个nm的厚度，可以用什么测试方法/仪器呢？ 已有7人参与
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想 请教一下大家，如果要测Si（111）/NiFe薄膜表面氧化层厚度，用什么方法合适呢？表面是自然氧化的，没通氧气没退火，所以氧化层很薄，XPS计算拟合出来还不到1nm，最多也就一两个个nm吧，薄膜总共几十nm。 之前问过TEM，测试老师说取样很难，会有很多假相，他只试过几个nm的测试，所以很有可能做不出来。 请问大家，通常这种厚度的，用什么方法更好呢？ |
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 薄膜材料和器件表征 |
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