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磁控溅射镀膜两靶共溅射应该怎么溅射？ 已有4人参与
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是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射！ 发自小木虫Android客户端 |
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L小懒虫
木虫 (著名写手)
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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这两种方式在一定范围内都可以改善涂层的均匀性，适当提高靶基距离也可以提高均匀性，改变基体与靶材的相对角度也可以改善均匀性，一般远端稍微倾斜3到5度 发自小木虫IOS客户端 |
6楼2018-07-24 17:17:56
138dong
金虫 (正式写手)
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- 专业: 半导体光电子器件
2楼2018-07-24 09:19:28
3楼2018-07-24 09:22:00
4楼2018-07-24 09:31:50
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