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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 工艺设计与开发 » 磁控溅射镀膜两靶共溅射应该怎么溅射？
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霸天虎123

铜虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射镀膜两靶共溅射应该怎么溅射？ 已有4人参与

是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射！

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1楼 2018-07-24 09:17:25
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138dong

金虫 (正式写手)
都可以

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书上有路勤为径
2楼2018-07-24 09:19:28
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lqm070

铁杆木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
估计后一种不均匀

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3楼2018-07-24 09:22:00
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霸天虎123

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 138dong at 2018-07-24 09:19:28
都可以

谢谢

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4楼2018-07-24 09:31:50
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霸天虎123

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by lqm070 at 2018-07-24 09:22:00
估计后一种不均匀

谢谢

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5楼2018-07-24 09:32:01
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L小懒虫

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
这两种方式在一定范围内都可以改善涂层的均匀性，适当提高靶基距离也可以提高均匀性，改变基体与靶材的相对角度也可以改善均匀性，一般远端稍微倾斜3到5度

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6楼2018-07-24 17:17:56
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pvdmaterial

新虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
是让基底旋转还是放在两靶中心位置让其共溅射

这两种方法都可以，看你设备的情况允许。一般来说，第一种镀出膜层的效果要更好一些

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7楼2018-07-25 17:25:45
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