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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 关于磁控溅射氧化物薄膜的制备方法，如二氧化硅
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kammury

木虫 (著名写手)

吃瓜美猴王

[交流] 关于磁控溅射氧化物薄膜的制备方法，如二氧化硅

目前了解到使用磁控制备氧化物薄膜大多采用的是射频磁控溅射。
想了解一下除rfMS之外，还有没有其它的溅射方法。
不知道kHz的脉冲直流是否可行？
希望懂的人来交流一下。
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Tigers.in.the.Mud.
1楼 2018-06-05 16:46:58
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091820053

禁虫 (知名作家)
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2楼2018-06-05 19:34:07
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kammury

木虫 (著名写手)

吃瓜美猴王
引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2018-06-05 19:34:07
氧化物部分可以直流

直流的话，那应该需要导电的金属靶材，在含氧气氛下溅射。
像硅这样的貌似不太合适；
溅射不导电氧化物靶材不知道您了不了解？
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Tigers.in.the.Mud.
3楼2018-06-06 09:06:36
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091820053

禁虫 (知名作家)
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4楼2018-06-06 09:41:01
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匿名

★
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5楼2018-06-11 18:54:51
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野人禾禾

金虫 (正式写手)
看你是氧化硅靶，还是硅靶？
氧化硅靶确实rf好一点，另工业上也可用中频。
硅靶，脉冲和中频都可以。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
6楼2018-06-13 18:51:42
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williamsh

新虫 (小有名气)
只有rf可以

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7楼2018-06-13 21:33:39
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huhu 3567

禁虫 (正式写手)
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8楼2019-04-29 14:04:25
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wanghua888

禁虫 (初入文坛)
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9楼2019-05-06 23:06:21
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1576594511

新虫 (小有名气)
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引用回帖:
6楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-06-13 18:51:42
看你是氧化硅靶，还是硅靶？
氧化硅靶确实rf好一点，另工业上也可用中频。
硅靶，脉冲和中频都可以。

用二氧化硅一直无法启辉是怎么回事

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10楼2019-11-14 23:33:08
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