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kammury

木虫 (著名写手)

吃瓜美猴王

[交流] 关于磁控溅射氧化物薄膜的制备方法,如二氧化硅

目前了解到使用磁控制备氧化物薄膜大多采用的是射频磁控溅射。
想了解一下除rfMS之外,还有没有其它的溅射方法。
不知道kHz的脉冲直流是否可行?
希望懂的人来交流一下。
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Tigers.in.the.Mud.
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1576594511

新虫 (小有名气)

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6楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-06-13 18:51:42
看你是氧化硅靶,还是硅靶?
氧化硅靶确实rf好一点,另工业上也可用中频。
硅靶,脉冲和中频都可以。

用二氧化硅一直无法启辉是怎么回事

发自小木虫Android客户端
10楼2019-11-14 23:33:08
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091820053

禁虫 (知名作家)

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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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2楼2018-06-05 19:34:07
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kammury

木虫 (著名写手)

吃瓜美猴王

引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2018-06-05 19:34:07
氧化物部分可以直流

直流的话,那应该需要导电的金属靶材,在含氧气氛下溅射。
像硅这样的貌似不太合适;
溅射不导电氧化物靶材不知道您了不了解?
Tigers.in.the.Mud.
3楼2018-06-06 09:06:36
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091820053

禁虫 (知名作家)

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4楼2018-06-06 09:41:01
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