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铜虫 (著名写手)

[交流] 【请教】用低温泵可以做氧化物或者碳化物薄膜吗?

有没有使用低温泵的朋友?
可不可以用低温泵做氧化物如ZrO2,碳化物如TiC薄膜?

我知道低温泵工作环境温度很低,O2和CH4气体能影响低温泵正常工作吗?

[ Last edited by SHY31 on 2009-3-23 at 09:47 ]
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gdalo

金虫 (小有名气)


SHY31(金币+1,VIP+0):谢谢交流 3-23 09:47
你所指的低温泵是指PVD的高真空腔用的,而不是用于低温冷源用的吧。
如果前者的话氧化物没有问题,但是氧气在低温泵的叶片沉积后,有可能与其他的沉积物质发生反应(低温泵重启的时候)产生危险。
CH4没用过,应该不会影响的
2楼2009-03-22 22:54:23
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redcom

铜虫 (著名写手)

谢谢你的回复!
你说的很对,我所说的低温泵就是用在pvd制膜时获得高真空用的。

O2或者CH4气体用的次数多了,是不是要做regeneration?
我实验室的实验员说,每做2-3次试验后,要做一次regeneration,也太频了吧。要知道,做一次regeneration,需要好长时间的。
3楼2009-03-23 08:56:31
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gdalo

金虫 (小有名气)

是的,这两种气体都是比较危险的,积累太多了的话在regeneration的时候容易出危险的。但也看你的使用情况了,气体的用量,其他成分是什么,每次实验的实际通气时间等等的,2-3次有点频繁了,这个大概是低温泵厂家的安全建议吧
4楼2009-03-23 09:48:54
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铜虫 (著名写手)

你说的危险,是指什么?爆炸?

CH4+N2+Ar,在低真空条件下制备薄膜,沉积温度300C,会产生爆炸吗?

让你说的,我在镀膜的时候都小心奕奕了。

从事科研不容易啊
5楼2009-03-23 17:25:05
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铜虫 (著名写手)

请问,你说的regeneration容易出危险,能说的具体点吗?
怎样做才能最大可能减小出危险的可能性?
谢谢。
引用回帖:
Originally posted by gdalo at 2009-3-23 09:48:
是的,这两种气体都是比较危险的,积累太多了的话在regeneration的时候容易出危险的。但也看你的使用情况了,气体的用量,其他成分是什么,每次实验的实际通气时间等等的,2-3次有点频繁了,这个大概是低温泵厂家 ...

6楼2009-03-28 17:20:02
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