| 查看: 1261 | 回复: 3 | ||||
[求助]
请问大家，直流磁控溅射银，溅射速度特别快是怎么回事？ 已有2人参与
|
|
我看人家磁控溅射银，都是100w，溅射30分钟，也就是几百纳米厚度。可是我溅射，用10 w功率，3分钟就有几百纳米甚至微米级别厚度，导致膜的质量特别差，抽真空到3×10-3次方，Ar气1.2pa的时候溅射。不知道是什么原因造成的，有没有人能帮帮我。 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 磁控溅射镀膜工艺 |
» 猜你喜欢
论文终于录用啦！满足毕业条件了
已经有13人回复
-
2025年遐想
已经有5人回复
-
投稿Elsevier的杂志（返修），总是在选择OA和subscription界面被踢皮球
已经有8人回复
-
求个博导看看
已经有18人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
nuaalizhong
木虫 (正式写手)
- 应助: 2 (幼儿园)
- 金币: 5622
- 散金: 1097
- 红花: 4
- 帖子: 656
- 在线: 369.4小时
- 虫号: 2774752
- 注册: 2013-11-03
- 性别: GG
- 专业: 无机非金属材料
2楼2018-05-05 03:24:28
3楼2018-05-11 16:51:20
4楼2018-05-14 10:21:55