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请问大家，直流磁控溅射银，溅射速度特别快是怎么回事？已有2人参与
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我看人家磁控溅射银，都是100w，溅射30分钟，也就是几百纳米厚度。可是我溅射，用10 w功率，3分钟就有几百纳米甚至微米级别厚度，导致膜的质量特别差，抽真空到3×10-3次方，Ar气1.2pa的时候溅射。不知道是什么原因造成的，有没有人能帮帮我。 发自小木虫Android客户端 |
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 磁控溅射镀膜工艺 |
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nuaalizhong
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