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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 设备仪器 » 请问大家，直流磁控溅射银，溅射速度特别快是怎么回事？
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折戟－沉沙

新虫 (小有名气)

[求助] 请问大家，直流磁控溅射银，溅射速度特别快是怎么回事？ 已有2人参与

我看人家磁控溅射银，都是100w，溅射30分钟，也就是几百纳米厚度。可是我溅射，用10 w功率，3分钟就有几百纳米甚至微米级别厚度，导致膜的质量特别差，抽真空到3×10-3次方，Ar气1.2pa的时候溅射。不知道是什么原因造成的，有没有人能帮帮我。

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1楼 2018-05-05 01:28:17
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nuaalizhong

木虫 (正式写手)
靶材和衬底的间距，靶材面积这些都会有影响

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2楼2018-05-05 03:24:28
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天行健08

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

是别人也用这个仪器厚度不一样吗？不同仪器，不同靶材大小，靶基距很多因素都有影响的，自己的仪器的溅射速率是需要测试的。
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MEMS
3楼2018-05-11 16:51:20
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

你如果对标别人的工艺，至少从以下几个方面对标：
1. 电源类型相同，功率密度近似（功率/靶面积）
2. 气压接近
3. 靶基距接近
这样才有比较的前提。银的沉积速率是金属靶里很快的，沉积厚很正常。
你能改变的就是将功率降低，靶基距拉远。
你的本底-3太高了，膜层质量也不会很高。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
4楼2018-05-14 10:21:55
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