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请问大家,直流磁控溅射银,溅射速度特别快是怎么回事? 已有2人参与
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我看人家磁控溅射银,都是100w,溅射30分钟,也就是几百纳米厚度。可是我溅射,用10 w功率,3分钟就有几百纳米甚至微米级别厚度,导致膜的质量特别差,抽真空到3×10-3次方,Ar气1.2pa的时候溅射。不知道是什么原因造成的,有没有人能帮帮我。 发自小木虫Android客户端 |
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磁控溅射镀膜工艺 |
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nuaalizhong
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