24小时热门版块排行榜

当前主题已经存档。

当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】RF磁控溅射薄膜退火后开裂

用180W的RF溅射陶瓷靶，大概厚度是1.5um吧，但是经过900度退火之后薄膜开裂的惨不忍睹，请问怎么回事啊？我的基片是石英，溅射过程中没有对基片进行加热。

1楼 2009-03-19 09:30:25

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

银虫 (小有名气)

谢谢！我也感觉肯定是应力的问题。之前的也都是这样，只不过薄膜厚度在0.7um以下的时候开裂程度不严重，也可能是看不出来吧。但是在1.5um之后就肉眼就能看出来了。基片的预处理就是传统的浓硫酸+双氧水，再乙醇，再丙酮。在溅射的时候基片加热能不能解决这个问题？

3楼2009-03-19 13:03:36

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

银虫 (小有名气)

一次上去的，石英基底和Si基底都试过，并且也试过ZnO作为缓冲层，效果都不好。溅射完之后200度/小时的速度到500度没问题，但是到900度就不行了。现在综合大家和文献的内容，可能只能在溅射的同时原位退火了。但是学校的机器加热又有点问题，愁人啊

10楼2009-06-30 21:32:31

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

银虫 (小有名气)

ZnGa2O4，制备发光膜用的，文献中一般都是在基片加热的情况下做的

14楼2009-07-09 09:04:50

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

相关版块跳转我要订阅楼主 doublewei 的主题更新