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15190052720

新虫 (正式写手)


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等离子刻蚀
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各位大神,请问下等离子刻蚀(Pe)和反应离子刻蚀(Rie),有什么区别吗。有资料可以学习吗?

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huang117365

银虫 (小有名气)



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引用回帖:
13楼: Originally posted by 15190052720 at 2018-03-30 17:00:23
如同样是通入氧气,那Rie如何实现离子轰击呢。
...

就我所在的行业,O2主要是用来灰化光刻胶及改善刻蚀性能,不用来做主刻蚀气体。等离子体由正负离子、电子、中性原子和分子组成。在RIE模式中,施加RF后产生等离子体,在RF的作用下,质量较小的电子先到达基板表面,由于隔直流电容器的作用,电子无法流走,电子就会在基板表面形成带负电的鞘层,在鞘层的作用下,正离子沿电场方向轰击基板表面。

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14楼2018-03-30 20:03:02
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huang117365

银虫 (小有名气)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
PE上部电极连接RF Generator,下部电极接地,以化学反应为主,为各向同性刻蚀;RIE下部电极连接RF Generator,以离子轰击为主,为各向异性刻蚀。
12楼2018-03-29 22:32:28
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15190052720

新虫 (正式写手)


引用回帖:
12楼: Originally posted by huang117365 at 2018-03-29 22:32:28
PE上部电极连接RF Generator,下部电极接地,以化学反应为主,为各向同性刻蚀;RIE下部电极连接RF Generator,以离子轰击为主,为各向异性刻蚀。

如同样是通入氧气,那Rie如何实现离子轰击呢。

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13楼2018-03-30 17:00:23
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sr04154楼
2018-03-28 22:26   回复  
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zhyvip9楼
2018-03-28 22:53   回复  
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supermyth6楼
2018-03-28 22:30   回复  
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nageshui8楼
2018-03-28 22:34   回复  
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2018-03-28 22:32   回复  
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lty21522楼
2018-03-28 22:08   回复  
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2018-03-28 22:29   回复  
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hp36003楼
2018-03-28 22:23   回复  
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倾偌闲10楼
2018-03-28 23:01   回复  
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hsy00711楼
2018-03-28 23:01   回复  
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