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等离子刻蚀
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15190052720
新虫
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各位大神,请问下等离子刻蚀(Pe)和反应离子刻蚀(Rie),有什么区别吗。有资料可以学习吗?
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1楼
2018-03-28 22:06:18
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huang117365
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13楼
:
Originally posted by
15190052720
at 2018-03-30 17:00:23
如同样是通入氧气,那Rie如何实现离子轰击呢。
...
就我所在的行业,O2主要是用来灰化光刻胶及改善刻蚀性能,不用来做主刻蚀气体。等离子体由正负离子、电子、中性原子和分子组成。在RIE模式中,施加RF后产生等离子体,在RF的作用下,质量较小的电子先到达基板表面,由于隔直流电容器的作用,电子无法流走,电子就会在基板表面形成带负电的鞘层,在鞘层的作用下,正离子沿电场方向轰击基板表面。
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强哥哥哥
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14楼
2018-03-30 20:03:02
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huang117365
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
PE上部电极连接RF Generator,下部电极接地,以化学反应为主,为各向同性刻蚀;RIE下部电极连接RF Generator,以离子轰击为主,为各向异性刻蚀。
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12楼
2018-03-29 22:32:28
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12楼
:
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huang117365
at 2018-03-29 22:32:28
PE上部电极连接RF Generator,下部电极接地,以化学反应为主,为各向同性刻蚀;RIE下部电极连接RF Generator,以离子轰击为主,为各向异性刻蚀。
如同样是通入氧气,那Rie如何实现离子轰击呢。
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13楼
2018-03-30 17:00:23
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sr0415
4楼
2018-03-28 22:26
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zhyvip
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2018-03-28 22:53
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supermyth
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nageshui
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2018-03-28 22:34
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1102900220
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2018-03-28 22:32
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lty2152
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2018-03-28 22:08
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wangxiaomail
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2018-03-28 22:29
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hp3600
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2018-03-28 22:23
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倾偌闲
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2018-03-28 23:01
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hsy007
11楼
2018-03-28 23:01
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