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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻时遇到的问题 已有3人参与

向各位请教一下光刻掩膜版如何清洗
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

有机溶剂的清洗往往很难解决光刻版上的沾污。因为在多次使用后,光刻版上粘的光刻胶会发生交联等反应,用有机溶剂进行超声是很难清洗干净的,所以楼上的回答是错误的。只有在掩模版的精度很差,清洗的洁净度要求很低的情况下,才适合有机溶剂清洗。
一般来说,标准的清洗,是使用碱性溶液,比如KOH,但由于碱金属离子沾污的困扰,也可以换成有机碱溶液(TMAH,注意接触安全)。实验室条件下,也可以用3号液,浓硫酸+双氧水煮沸清洗,会非常干净。这种酸液也可以用高锰酸钾+高猛酸类的强氧化溶液取代。
而对于工业领域,则需要用3号液和超声或兆声清洗来完成。
14楼2019-07-16 15:00:36
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普通回帖

光刻电子

禁虫 (正式写手)

感谢参与,应助指数 +1
本帖内容被屏蔽

2楼2018-02-28 14:12:50
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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 光刻电子 at 2018-02-28 14:12:50
可以自己洗,也可以拿回制版单位洗。如果图省事可以拿回制版单位洗,这样比较保险。

自己清洗的话,具体的怎么做啊

发自小木虫Android客户端
3楼2018-03-01 07:25:24
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光刻电子

禁虫 (正式写手)

本帖内容被屏蔽

4楼2018-03-01 10:59:17
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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 光刻电子 at 2018-03-01 10:59:17
你是复印版?表面污染主要是什么?...

应该是一些光刻胶和一些粉尘吧

发自小木虫Android客户端
5楼2018-03-01 11:08:17
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研材-jiali

捐助贵宾 (小有名气)


丙酮异丙醇各超声10min,去离子水冲洗

发自小木虫Android客户端
6楼2018-03-01 13:55:31
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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by 研材-jiali at 2018-03-01 13:55:31
丙酮异丙醇各超声10min,去离子水冲洗

我担心超声会破坏掩膜版图案

发自小木虫Android客户端
7楼2018-03-01 19:29:19
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

如果是石英版:浓硫酸+双氧水 煮
如果是玻璃版:丙酮->酒精->IPA 超声
如果是stepper用的版:送回原厂

接触式光刻的版,如果图形比较大,可以用无尘布先用丙酮擦洗,线条细就别这么做了。
8楼2018-03-06 13:11:56
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微笑的小鱼

新虫 (初入文坛)

我用的都是石英和玻璃的版,先用无尘布沾上去胶液擦一下,然后喷点酒精,再冲水,吹干

发自小木虫IOS客户端
9楼2018-07-10 00:38:14
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自由with奋斗

木虫 (正式写手)

引用回帖:
8楼: Originally posted by yswyx at 2018-03-06 13:11:56
如果是石英版:浓硫酸+双氧水 煮
如果是玻璃版:丙酮->酒精->IPA 超声
如果是stepper用的版:送回原厂

接触式光刻的版,如果图形比较大,可以用无尘布先用丙酮擦洗,线条细就别这么做了。

请问石英版的掩膜版可以超声吗?
10楼2019-05-14 12:31:32
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