【答案】应助回帖

11楼2019-05-21 22:44:05

babyoflion

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引用回帖:

8楼: Originally posted by yswyx at 2018-03-06 13:11:56
如果是石英版：浓硫酸+双氧水煮
如果是玻璃版：丙酮->酒精->IPA 超声
如果是stepper用的版：送回原厂

接触式光刻的版，如果图形比较大，可以用无尘布先用丙酮擦洗，线条细就别这么做了。

如果是玻璃材质的光刻版浓硫酸和双氧水还能用么？看着是不反应的啊

12楼2019-07-10 09:32:30

原位代加工

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【答案】应助回帖

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13楼2019-07-10 14:14:32

yswyx

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【答案】应助回帖

有机溶剂的清洗往往很难解决光刻版上的沾污。因为在多次使用后，光刻版上粘的光刻胶会发生交联等反应，用有机溶剂进行超声是很难清洗干净的，所以楼上的回答是错误的。只有在掩模版的精度很差，清洗的洁净度要求很低的情况下，才适合有机溶剂清洗。
一般来说，标准的清洗，是使用碱性溶液，比如KOH，但由于碱金属离子沾污的困扰，也可以换成有机碱溶液（TMAH，注意接触安全）。实验室条件下，也可以用3号液，浓硫酸+双氧水煮沸清洗，会非常干净。这种酸液也可以用高锰酸钾+高猛酸类的强氧化溶液取代。
而对于工业领域，则需要用3号液和超声或兆声清洗来完成。

14楼2019-07-16 15:00:36