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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻时遇到的问题
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百无二用

新虫 (小有名气)
丙酮泡一下就可以

发自小木虫IOS客户端
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11楼2019-05-21 22:44:05
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babyoflion

金虫 (著名写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by yswyx at 2018-03-06 13:11:56
如果是石英版：浓硫酸+双氧水 煮
如果是玻璃版：丙酮->酒精->IPA 超声
如果是stepper用的版：送回原厂

接触式光刻的版，如果图形比较大，可以用无尘布先用丙酮擦洗，线条细就别这么做了。

如果是玻璃材质的光刻版 浓硫酸和双氧水还能用么？看着是不反应的啊
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12楼2019-07-10 09:32:30
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原位代加工

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

内容已删除
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13楼2019-07-10 14:14:32
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

有机溶剂的清洗往往很难解决光刻版上的沾污。因为在多次使用后，光刻版上粘的光刻胶会发生交联等反应，用有机溶剂进行超声是很难清洗干净的，所以楼上的回答是错误的。只有在掩模版的精度很差，清洗的洁净度要求很低的情况下，才适合有机溶剂清洗。
一般来说，标准的清洗，是使用碱性溶液，比如KOH，但由于碱金属离子沾污的困扰，也可以换成有机碱溶液（TMAH，注意接触安全）。实验室条件下，也可以用3号液，浓硫酸+双氧水煮沸清洗，会非常干净。这种酸液也可以用高锰酸钾+高猛酸类的强氧化溶液取代。
而对于工业领域，则需要用3号液和超声或兆声清洗来完成。
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14楼2019-07-16 15:00:36
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